九州・沖縄・山口支部

◆◆◆　Last update is 2005.10.24　◆◆◆

• 2005年11月17日(木) 13:00〜13:50
• 山口大学工学部　Ｄ講義棟　Ｄ１１室
  

講演

講師：吉田　豊信（東京大学大学院工学系研究科・教授） 講演題目：次世代プラズマスプレープロセシング 講演要旨： 一般にplasma sprayの日本語訳としては“プラズマ溶射”が使われており，“プラズマ状態を利用し，粉末あるいは線材を溶かし，液滴状態にして射る”の意としては誰が訳されたかは不明であるが名訳ではある。しかし，“spray”とは“噴霧，散布”の意であって，もともとprocessing（加工）の意味を含んでおり，工学的には“物質の状態あるいは形体を変化させ，連続的な方向性を有した流れとして噴霧あるいは散布する一連のプロセスの総称”と定義すべきものであろう。その意味で，プラズマスプレーとしては，“気相，液相，あるいは固相状態の物質をプラズマ中に連続的に注入し，物理的あるいは化学的に形体あるいは状態を変化させ，噴霧あるいは散布することを基本とするマテリアル製造プロセスの総称”としておくと，学術的にも関連分野が拡大され，blue sky targetへの展開も夢ではなくなる気がする。 　上記意味から，プラズマスプレープロセシングによる製造マテリアルの対象を“ナノ粒子，球状粉末，薄膜，コーティング等”にまで拡大し，包括的に議論する必要性を最近感じることが多くなった。本講演では表記課題全体について講演させていただく予定であるが，時間の制約上，プラズマスプレー技術において産業的意味でその中核を成すプラズマ粉末溶射について詳述し，プラズマスプレーCVDやPVD，プラズマスプレーによるナノ粒子合成，エピタキシャル成長，物理蒸着等に関しては簡単に紹介する。

世話人

福政　修 山口大学工学部電気電子工学科 fukumasa@plasma.eee.yamaguchi-u.ac.jp