シリコン微粒子の渦運動
アモルファスシリコン薄膜は太陽電池や液晶ディスプレイ駆動用の薄膜トラン ジスタ材料として脚光を浴びている。シランガスを用いた平行平板グロー放電 プラズマを用いたＣＶＤ法によりこの膜は堆積されるが、 このとき発生する微粒子による膜汚染が問題となっている。 この写真は直流グロー放電プラズマに より発生する微粒子の二次元空間分布をＨｅ−Ｎｅレーザーのミー（Ｍｉｅ） 散乱光により観測したもので、カソードシース近傍にリング状の微粒子が見られる。 低周波の変調磁界を印加すると負に帯電した微粒子がゆっくりと渦状に 回転する。 空間電荷効果を考慮した３成分プラズマの両極性ＥｘＢドリフトが その運動を引き起こしていると考えられている。
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