学会の概要>>学会の活動>>第23回専門講習会  [終了しました]
高出力レーザー応用最前線

最終更新:2012.1.19


近年の高出力レーザーの発展には目覚しいものがあります。特に微細加工に適した新世代の短波長光源は様々な分野での応用が期待されています。本講習会では、高出力レーザー応用の最先端の成果を紹介することを予定しています。はじめに短波長光源リソグラフィへの応用に触れ、次にレーザープラズマによる更なる短波長光源開発について講演いたします。引き続き、真空紫外光とよばれる短波長光からから長波長の中赤外光までの様々な波長の光や高強度の光に対する光学素子研究の話をいたします。その後、次世代の大型X線光源であるX線自由電子レーザーについて紹介させていただきます。さらに今回は、実際の高強度光源である大阪大学レーザーエネルギー学研究センターの施設の見学を行います。 プラズマ・核融合分野以外の研究者・学生に大変役立つ内容の講習会ですので、多数のご参加をお待ちしております。。

日 時

2011年1月13日(木)13時〜17時30分

場 所

大阪大学レーザーエネルギー学研究センター(吹田市)

申込方法

参加申込書(wordファイル)必要事項をご記入いただき,いずれかの方法でご送信ください

電子メール添付 ・ Fax ・ 郵送

申込期限

講習会当日まで随時 (ただし,定員に達し次第締め切ります)

定 員

60名程度

参 加 費

参加費には消費税およびテキスト代が含まれます

・ 正会員、賛助会員(協賛学協会員を含む) 10,500円
・ 学 生 2,100円
・ 会員外 15,750円
主 催

(社)プラズマ・核融合学会


時 間
題目/講演者/講演要旨

13:00(10分)

はじめに 疇地 宏(大阪大学)

13:10(30分)

リソグラフィ用光源(ArF、EUV)開発の現状と今後
 溝口 計(ギガフォトン))



半導体露光用エキシマレーザーは、狭帯域化技術と単色投影光学系のコンセプトが1980年代後半に誕生し四半世紀になる。DUV領域のエキシマレーザーKrF、ArF、F2、高出力ArFを使った液浸、二重露光と目まぐるしく技術開発が進められてきた。本講習会では、液浸・二重露光リソグラフィ用ArFエキシマレーザーの開発およびEUVリソグラフィ用LPP式EUV光源の最新の成果までを概観する。

13:40(30分)

レーザープラズマ放射XUV-X線とその応用
 西村博明(大阪大学)



高出力レーザーにより生成されたプラズマからは、テラヘルツ波から極端紫外(XUV)、さらにX線からγ線にいたる高輝度電磁波や、メガ電子ボルトからギガ電子ボルトものエネルギーをもつ高速電子やイオンが生成され、新しい光・量子放射源として応用を広げつつある。本講演では、特に、XUV-X線にスポットを当て、発生機構と応用(EUVリソグラフィは除く)の現状について概説する。。

14:10(30分)

プラズマと光計測技術
 猿倉信彦(大阪大学



光源としてのプラズマ応用を進展させるためには、プラズマの状態を観測できる画像計測技術が必要不可欠である。例えば、次世代リソグラフィへの応用が期待されるレーザープラズマ放射極端紫外(EUV)光源の場合、ナノ秒、マイクロメートルオーダーの高時間・空間分解能を持つ画像計測素子が求められている。この要求仕様を満たしうるのが超高速シンチレーターであるZnOである。講習会では、ZnO結晶のEUVシンチレーターとしての特性について概説する。

 

14:40 (20分)

 休  憩

15:00(30分)

光学素子のレーザー損傷研究における最近の成果
 實野 孝久(大阪大学)



阪大レーザーエネルギー学研究センターでは長年に亘り、高性能のレーザーを 開発する場合に問題となるレーザー損傷について研究を行ってきた。今回の講 習ではこれまでのレーザー損傷についての研究を紹介すると共に、高耐力光学 素子を得るための新しい試みや光学薄膜の汚染による耐力低下についての最新 の研究成果を報告する。

15:30(30分)

中赤外光素子の開発
 阿竹 宏(昭和オプトロニクス)



波長3〜15μmの中赤外波長帯は、光と電波の中間の領域であり、主に常温域における物体が発する熱線の波長領域である。この波長を利用した光学系は、防犯用の人体センサから、車載用暗視カメラ、防衛用監視カメラなどに広く用いられている。ここでは、この中赤外領域で用いられるレンズ等の光学部品の特徴を解説すると共に、機械加工による回折光学素子の製造と、この回折光学素子を利用した温度補正光学系を紹介する。

16:00(30分)

SPring-8におけるX線自由電子レーザープロジェクト
 矢橋牧名(理化学研究所)


兵庫県西播磨のSPring-8サイトにおいて、X線自由電子レーザー (XFEL) 施設の建設が国家基幹技術として進められている。2011年春には施設が完成し、ビームチューニングに引き続いて、2012年初頭から共用運転が開始される予定である。XFELは超高輝度、高コヒーレンス、超短パルスという特性をもつ新しい光源であり、様々なサイエンスを開拓すると期待されている。本講演では、XFELの光特性、サイエンスの可能性、施設・装置の概要を紹介する。

16:30(60分)

施設見学

<見学施設の紹介>

・激光XII号レーザーシステム

激光XII号レーザーは12本のビームからなる大型ガラスレーザーシステムで、基本波長1053nm、最大出力10 kJ(パルス幅1ns)が得られる。学術的には、核融合研究の他にプラズマ物理・宇宙物理・高圧力物性物理・材料科学・医療応用・機械工学・流体力学など、高出力レーザーの特徴を生かした基礎から応用に至る幅広い研究に利用されている。併設されているLFEXレーザーは10kJ/10psの出力が得られるペタワットレーザーで、これを用いた高速点火核融合、相対論プラズマ物理、中性子源やX 線、γ線源などの研究がなされている。

 

・極端紫外光レーザーシステム

小型YA G レーザーとプローブレーザーを主力とし、プラズマ発生チェンバー、各種E U V 〜 X 線分光装置、E U V 〜 X 線画像装置、中性粒子やイオンなどの粒子スペクトル計測装置などから構成されているチェンバーは8角柱構造となっており、チェンバー壁を構成する平板を取り去って内部に設定する装置群の調整が容易にでき、かつ多用な計測アクセスが可能である。本装置は極端紫外( E U V )発生とその応用研究に適した研究装置として整備され、レーザー駆動E U V 光源開発における高効率化、低デブリ化の研究に実績を上げてきたが、最近ではレーザーアブレーション過程やレーザー推進の基礎研究、E U V アブレーションの物理過程研究などにも使用されている。