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時 間
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題目と講演者，要旨（敬称略）
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10：00
（5分）
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開会挨拶 永津雅章（静岡大学）
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10：05
（60分）
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大気圧プラズマの生成および制御
小駒益弘（上智大学）
Heを主とした希ガスを用いて誘電体層を隔てたパルス放電を行えば，大気圧にもかかわらず，低気圧下に類似した拡散グロー放電が可能である。Heプラズマ中に，必要な気体を少量混入する事によって，低圧放電と同様，ラジカル反応や重合反応によるプロセッシングが期待される。講習会では筆者らにより始められた，大気圧グロープラズマの基礎と，実際に工業化に成功した応用例や研究例など，将来の技術展望を含めて紹介してゆく予定である。
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11：05（55分）
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大気圧プラズマを用いた材料表面プロセス
寺嶋和夫（東京大学）
近年，新たな材料表面プロセスプラズマ源として大気圧プラズマが注目を集めている。本セクションでは，(1)プロセスの高速性，(2)高価な真空装置からの解放，(3)真空環境になじまない粉体やバイオ物質などウエット系への適用性，などの大気圧プラズマの特長を十二分に生かした，膜堆積，表面処理，クリーニングなどの材料表面プロセスへの応用について，その現状と将来展望について紹介させていただく。
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12：00
(80分)
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昼 食
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13：20（50分）
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大気圧プラズマを用いた半導体デバイスプロセス
堀 勝（名古屋大学）
大規模半導体集積回路（ULSI），薄膜トランジスタ（TFT），太陽電池，微小電気機械システム（MEMS：Micro
Electro mechanical
System）などの半導体デバイス製造においては，超高速で材料を加工するプロセス技術が必要になっている。特に，厚膜のシリコン酸化膜の高速エッチング，シリコンウエハの超高速貫通加工，ガラス基板上へのシリコン膜の高速堆積を実現する技術として大気圧非平衡プラズマプロセスが注目されている。本稿では，半導体デバイスプロセスに必要な大気圧プラズマの装置，プロセス，計測技術の現状と将来動向を分かりやすく紹介する。
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14：10
（50分）
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大気圧・液中プラズマ媒介バイオナノ材料創製技術
畠山力三（東北大学）
プラズマナノテクノロジーが関わる大気圧プラズマプロセスとして，最初にカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）創製について述べる。次にバイオ_ナノ融合を意識し，大気圧下の液体プラズマ中プロセスに注目し，ごく最近のプラズモニクスにも有用なナノコロイド粒子創製と，電解質プラズマによる生体高分子ＤＮＡ及びイオン液体内包ＣＮＴの創製について解説し，最後に大気圧・液界面プロセスによるバイオナノ材料創製について触れる。
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15：00
（20分）
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休 憩
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15：20
(50分)
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大気圧プラズマを用いた排ガスなどの処理技術
水野 彰（豊橋技術科学大学）
空気中の有機揮発性ガス除去など，室内環境や作業環境改善のための効果的な空気浄化技術が望まれている。また，車載可能なディーゼル用排ガス浄化装置の実用化が望まれている。最近，大気圧低温プラズマで発生する活性種（ラジカル）の化学反応を利用して排ガスなどを浄化するプラズマガス浄化法が実用化され始めている。放電プラズマと触媒あるいは吸着剤との併用により効率向上が可能であり，表面反応などの機構解明の課題が残されている興味深い技術である。また水中あるいは水面にプラズマを発生することで水の浄化などにも応用できる可能性がある。本稿では，放電プラズマによるガスや水の浄化プロセスの概要と応用例ならびに課題を紹介する。
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16：10
(50分)
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大気圧プラズマを用いた滅菌技術
永津雅章（静岡大学）
医療分野あるいは食料品分野において，従来，高圧蒸気滅菌法（オートクレーブ滅菌）や毒性のエチレンオキサイドガスを用いたガス滅菌法が広く用いられている。しかしながら，前者は耐熱性材料に使用が限定される問題や後者の環境面の問題などから，近年，有毒物質を用いず，常温下において処理が可能なプラズマを用いる滅菌技術の開発が注目されている。本稿では，プラズマ滅菌に関するこれまでの研究の背景を紹介した後，近年，注目されている大気圧プラズマを用いた低温滅菌技術について国内外の研究動向を紹介する。
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17：00
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閉会挨拶
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