13:00-13:10 | 1. 趣旨説明 | 白谷正治(九大) |
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13:10-13:40 | 2. DCアーク放電を用いた多機能ナノ微粒子合成技術の深化 | 永津雅章(静岡大) |
13:40-14:10 | 3. 反応性ダストプラズマプロセスの開発とナノ粒子デバイスへの応用 | 内田儀一郎(阪大) |
14:10-14:40 | 4. 半導体デバイス製造プラズマエッチング技術の深化 | 関根 誠(名大) |
(14:40-15:10 | 休 憩) | |
15:10-15:40 | 5 メゾプラズマナノクラスターを利用したエピタキシャルブリッジング | 神原 淳(東大) |
15:40-16:10 | 6. 反応性プラズマ中ナノ粒子成長ゆらぎ制御の深化 | 古閑一憲(九大) |
16:10-16:40 | 7. フレキサブルMEMSの創製に向けたプラズマナノプロセスの深化 | 寺嶋和夫1,2、伊藤剛仁1,2、後藤 拓1,2、妻木正尚1、榊原教貴1,2 (東大・新領域1、産総研・OIL2) |
*座長:前半 白谷、後半 内田