13:00〜13:05 はじめに / 大野哲靖(名古屋大学)

13:05〜1425 プローブ計測の基礎  – ラングミュアプローブからプロセスプラズマ用プローブまで -  
/ 中村圭二 (中部大学)

本講演では、プロセスプラズマの挙動を特徴づける「電子密度」や「電子温度」のモニタに用いられるプローブ手法を取り上げる。主に、最も基本的な「ラングミュアプローブ」、プロセスプラズマに幅広く適用できる「表面波プローブ」等に焦点を当て、その動作原理、密度導出法および利用上の留意点等を解説する。またプロセスプラズマのモニタリング例についても紹介する。

1425〜15:45 発光分光計測を用いたプラズマ診断の基礎 – シリコン系太陽電池製作を題材として -  
/ 布村正太 (産業技術総合研究所)

発光分光計測は、プラズマを擾乱を与えない特徴がある。また、特殊な実験技術を必要としないため光計測の初心者にも適した計測法である。しかしながら、得られた分光データの解釈にはプラズマ内部の素過程に関する知識が必要とされる。本講演では、発光分光の基礎と解析手法について説明するとともに,実際のプロセス装置への適用例について紹介する。

16:00〜17:20 質量分析を用いた粒子計測の基礎 — 計測原理から分析応用までー  
/ 豊田浩孝 (名古屋大学)

質量分析を用いることによって、①プラズマ中のイオン種、②プラズマ中のラジカル種、③プラズマ中の負イオン、④基板表面で形成される負イオン、⑤プラズマ中の中性分子種などを測定ができる。本講演では,質量分析装置の基礎から,出現質量分析の応用実例を紹介する。