専門講習会開催にあたって

プラズマを用いたスパッタ成膜技術は、基本的プラズマプロセス技術のひとつとして、表面コーティングから、最先端の電子デバイスプロセスまで、さまざまな工業分野においてなくてはならないものとなっております。また、近年は大型電子デバイス製造におけるコーティング技術としての大型スパッタ成膜や、ミニマルファブへの展開、High Power Impulse Magnetron Plasma(HIPIMS)といった新しいスパッタ技術も開発されるとともに、技術の高度化をもとにして高品質結晶膜のスパッタ成膜技術も開発されています。

本専門講習会では、主にスパッタ技術とその応用に興味を持つ企業・大学・研究機関の技術者・研究者を対象に、スパッタ技術の現状と将来を分り易く講習します。特に、スパッタプラズマのプラズマ解析技術、高密度スパッタ技術であるHIPIMS、小型および大面積スパッタ装置に興味がある方、スパッタ技術の新しい応用として新規薄膜形成技術に興味のある方等、スパッタ技術における近年の発展に興味がある方等に貴重な情報収集の機会を提供します。企業等でスパッタ技術を利用されている方だけでなくプラズマ・核融合分野の研究者・学生にも、プラズマプロセスとして重要なスパッタ技術の理解や最新の応用技術を理解するよい機会となる講習会です。多数のご参加をお待ちしております。

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